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合作案例

  • 清華大學采購PLUTO-T等離子清洗機
    清華大學采購PLUTO-T等離子清洗機 清華大學調研了眾多等離子表面處理設備,最終選擇了上海沛沅生產的Pluto-T等離子清洗機/表面處理機。根據(jù)客戶的技術要求,提供了可以滿足老師所有技術參數(shù)要求的Pluto-T等離子清洗機/表面處理機,以下為該設備的安裝調試圖。
  • 上海交大采購PLUTO-MC沉積鍍膜設備
    上海交大采購PLUTO-MC沉積鍍膜設備 2020年12月,上海交通大學采購我司PLUTO-MC沉積鍍膜設備。該設備采用13.56MHz射頻,涂覆面積為150*150mm,具備良好的穩(wěn)定性與可重復性。
  • 電子科技大學采用Pluto-MD等離子去膠機進行晶圓去膠
    電子科技大學采用Pluto-MD等離子去膠機進行晶圓去膠 電子科技大學已采購多臺等離子設備,包括PLUTO-T等離子清洗機,PLUTO-MD等離子去膠機等,用戶反饋良好。主要涉及的應用有:晶圓光刻膠的去除、電子半導體樣品表面有機物的去除、多功能微納結構寬帶吸收器的表面處理等等。

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企業(yè)新聞| CORPORATE NEWS

臺式真空等離子清洗機的工作原理與應用價值

在現(xiàn)代精密制造、科研實驗以及高技術產業(yè)領域,對材料表面潔凈度與活性的要求日益嚴苛。傳統(tǒng)的清洗方式,如溶劑清洗、超聲波清洗等,雖然在一定程度上能夠去除表面污垢,但...

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技術文章| Technical articles

等離子去膠機的選擇要素可分為以下幾點

等離子去膠機是半導體、電子制造及材料科學領域中用于去除表面有機殘留(如光刻膠、聚合物)的關鍵設備,其核心原理是通過等離子體中的活性粒子與材料表面發(fā)生化學反應或物理轟擊,實現(xiàn)高效、無損傷的清潔。選擇合適的設備需綜合評估處理需求、樣品特性、操作效率及長期使用成本,以下從核心要素展開分析。一、明確處理需求與目標等離子去膠機的選擇依據(jù)是處理對象的特性與目標。用戶需先明確以下問題:污染物類型:若需去除光刻膠、抗反射層等有機物,需選擇氧等離子體設備,其活性氧離子可高效分解碳鏈結構;若為金...

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應用案例

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  • 公司郵箱:1399511421@qq.com
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